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磁控溅射系统 NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机高校&科研专用

NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-23 00:23:31 游览次数：9
磁控溅射镀膜机 NSC-3500全自动磁控溅射系统高校&科研专用

NSC-3500全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-23 00:17:02 游览次数：9
NDT-4000热真空试验箱那诺-马斯特

NDT-4000热真空试验箱：NDT-4000是NANO-MASTER进口热真空系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护

热真空试验系统热真空试验箱
更新时间：2024-06-22 23:34:50 游览次数：7
空间环境模拟试验设备那诺-马斯特

空间环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它

热真空试验系统空间环境模拟试验设备
更新时间：2024-06-22 23:34:50 游览次数：9
热真空环境模拟试验设备那诺-马斯特

热真空环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。

热真空试验系统热真空环境模拟试验设备
更新时间：2024-06-22 23:34:49 游览次数：7
离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统那诺-马斯特

NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

Cleaning清洗去胶系统离子束清洗系统
更新时间：2024-06-22 23:34:49 游览次数：7
离子束清洗 NIE-3000离子束清洗系统那诺-马斯特

NIE-3000离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。

Cleaning清洗去胶系统离子束清洗系统
更新时间：2024-06-22 23:34:49 游览次数：8
晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统那诺-马斯特

LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统为全自动机械手上下载片，可以在

Cleaning清洗去胶系统大基片清洗/去胶/湿法刻蚀
更新时间：2024-06-22 23:34:47 游览次数：9
晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机那诺-马斯特

SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:47 游览次数：10
原装进口清洗机 SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机那诺-马斯特

SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:46 游览次数：10
进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机那诺-马斯特

SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统配套机械手，也可以升级为多系统的集成

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:46 游览次数：10
硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统那诺-马斯特

SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗，以及兆声辅助的光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:46 游览次数：10
半导体晶圆清洗设备 SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统那诺-马斯特

SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗，以及兆声辅助下光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:46 游览次数：9
硅片清洗设备进口晶圆清洗机那诺-马斯特

进口晶圆清洗机：Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:46 游览次数：8
晶圆清洗机硅片清洗机那诺-马斯特

硅片清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 23:34:45 游览次数：9
等离子刻蚀机 NPC-4000（A）全自动等离子去胶机（刻蚀机）那诺-马斯特

NPC-4000（A）全自动等离子去胶机（刻蚀机）：NANO-MASTER 等离子刻蚀和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列

Cleaning清洗去胶系统等离子去胶清洗及灰化系统
更新时间：2024-06-22 23:34:44 游览次数：10