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干法刻蚀机 NRE-3000反应离子刻蚀机那诺-马斯特

NRE-3000 反应离子刻蚀机：PC控制的RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个

Etching刻蚀系统 RIE反应离子刻蚀系统
更新时间：2024-06-22 23:34:40 游览次数：8
半导体刻蚀设备 NRE-3500（M）反应离子刻蚀机那诺-马斯特

NRE-3500（M）反应离子刻蚀机：PC控制的反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空

Etching刻蚀系统 RIE反应离子刻蚀系统
更新时间：2024-06-22 23:34:40 游览次数：9
刻蚀设备 NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机那诺-马斯特

NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机：自动上下栽片，PC控制的RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜，13“顶盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.2“观察.该系统可以支

Etching刻蚀系统 RIE反应离子刻蚀系统
更新时间：2024-06-22 23:34:40 游览次数：8
PVD真空镀膜机 NOC-4000光学镀膜设备那诺-马斯特

NANO-MASTER NOC-4000光学镀膜设备提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支

Deposition沉积系统进口光学镀膜机
更新时间：2024-06-22 23:34:31 游览次数：10
光学镀膜机 NOC-4000光学镀膜系统那诺-马斯特

NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支

Deposition沉积系统进口光学镀膜机
更新时间：2024-06-22 23:34:31 游览次数：9
那诺-马斯特双腔体真空工艺系统

NANO-MASTER支持两个系统的任意组合。在产品册上可找到的ALD，溅射，蒸镀，离子铣或IBE，RIE，PECVD等均可以配置为双系统。通过共享真空系统和可能的离子源电源，成本得以下降。腔体通过门

双系统双腔体真空工艺系统
更新时间：2024-06-22 16:04:13 游览次数：10
那诺-马斯特双腔光学元件镀膜系统

NANO-MASTER的NOC-4000光学涂覆系统在一个腔体中提供了Z先进的光学元件原子级清洗和刻蚀，之后自动把样片传输到第二个腔体进行光学涂覆，这个过程无需中断真空。系统也可以独立使用任一个腔体，

双系统双腔光学元件镀膜系统
更新时间：2024-06-22 16:04:13 游览次数：8
那诺-马斯特 Plasma Source等离子体源

NANO-MASTER （那诺-马斯特）可根据客户需求，提供合适的Plasma Source等离子体源，可以是空心阴极等离子源，也可以是感应耦合等离子源。等离子源可应用于离子辅助镀膜、等离子聚合、等离

核心组件等离子体源
更新时间：2024-06-22 16:04:13 游览次数：8
那诺-马斯特 Platens样品台

Platens样品台，又称为基板或加热板，是真空镀膜设备中常用到关键部件。因此样品台可以整合到RIE刻蚀、ICP刻蚀、PECVD、ALD等刻蚀和沉积设备中，给晶圆等样片进行均匀加热和冷却处理，为微纳米

核心组件 Platens样品台
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：7
那诺-马斯特 NDT-4000热真空系统

NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的

热真空试验系统热真空系统
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：8
那诺-马斯特 NPC-3500(A)研发用等离子去胶机

NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不

Cleaning清洗去胶系统研发用等离子去胶机
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：10
离子源清洗 NIE-3500（M）离子束清洗系统那诺-马斯特

NIE-3500（M）离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

Cleaning清洗去胶系统离子束清洗系统
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：9
晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统那诺-马斯特

Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离。它是集成式的一体化系统，可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥

Cleaning清洗去胶系统大基片清洗/去胶/湿法刻蚀
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：8
晶圆清洗设备兆声清洗机那诺-马斯特

Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统配套机械手，也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无

Cleaning清洗去胶系统单晶圆/掩模版兆声清洗机
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：9
等离子清洗机 NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特

NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不

Cleaning清洗去胶系统等离子去胶清洗及灰化系统
更新时间：2024-06-22 16:04:12 游览次数：9
那诺-马斯特 NMC-4000 MOVPE设备

针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的冷却槽）、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分

Growth生长系统 MOVPE设备
更新时间：2024-06-22 16:03:38 游览次数：8